按照用户的使用目的调节空气的温度、湿度、气流的系统
半导体制造工艺中光刻用涂布显影设备及PR温湿度环境控制
| Control Spec. | Temp. | THC | S.V ± 0.1℃ |
| Humid. | S.V ± 0.5% | ||
| Temp. | CHR | S.V ± 0.1℃ |
| Control Spec. | Temp. | THC | S.V ± 0.1℃ |
| Humid. | S.V ± 0.5% |
通过冷却室内空气来控制箱内湿度的装置
半导体制造工艺中Etch & Wet设备的湿度管理
| 温湿度控制性能 |
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根据用户的目的调整液体(恒温水)温度的系统
半导体制造工艺中光刻用涂布显影设备的电机、油量、晶圆温度的调节管理
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