공기의 온도, 습도, 기류 등을 사용자의 목적에 맞게 가장 알맞은 상태로 조정하는 시스템
반도체 제조 공정내 Photolithography용 Coater & Developer 설비 및 PR 온습도환경 제어
Control Spec. | Temp. | THC | S.V ± 0.1℃ |
Humid. | S.V ± 0.5% | ||
Temp. | CHR | S.V ± 0.1℃ |
Control Spec. | Temp. | THC | S.V ± 0.1℃ |
Humid. | S.V ± 0.5% |
실내공기를 냉각시켜 Chamber 내의 습도를 제어하는 장치
반도체 제조 공정내 Etch & Wet 설비의 습도 관리 목적
온도/습도 제어 성능 |
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액체(항온수)를 사용자 목적에 맞게 온도를 조정하는 시스템
반도체 제조 공정내 Photolithography용 Coater & Developer 설비의 모터, 유량, Wafer 온도를 조절 관리
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